讲座题目：新型高k栅的界面工程与应用探索
讲 座 人：何刚 安徽大学材料科学与工程学院
讲座时间：2022年02月27日 14：00
讲座地点：力学与光电物理学院三楼学术报告厅
报告人简介：
何刚，安徽大学材料科学与工程学院教授，博士生导师，安徽省真空学会理事，全国薄膜专委会委员，安徽省特聘教授，安徽省学术与技术带头人，合肥市第八批专业技术拔尖人才。2006年毕业于中科院固体物理研究所获博士学位。2007-2009在日本东京大学应用化学系开展JSPS海外特别研究员工作；2009-2011在日本国家材料科学所开展高级研究员工作。2011年到安徽大学物理与材料科学学院工作。主要从事新型高k栅介质的设计、制备及与器件集成相关的科研工作。主要的研究内容：新型高k栅的掺杂设计及结构优化、高k栅的界面钝化、以及高k栅在场效应器件与薄膜晶体管方面的应用等。迄今为止，已在Pro. Mater. Sci; Sur. Sci. Re;, Adv. Electro Mater;, Appl. Phys. Lett; Phy. Rev. B; IEEE EDL等国际学术期刊上发表SCI论文260余篇。发表论文总被Nature Mater., J. Am. Chem. Soc..,等国际学术期刊论文引用4300余次, H因子32；主持和参加科技部重点研发计划、国家自然科学基金、教育部重点项目、安徽省自然基金等项目。安徽省自然科学二等奖获得者。
内容简介：集成电路的快速发展已导致其核心部件场效应晶体管的栅介质层接近原子尺度，栅极漏电和静态功耗急剧增加，硅基器件的发展已接近其物理极限。因此器件持续微型化受到器件结构、材料及工艺等诸多因素的严重制约，必须针对功耗、性能提高、工艺等问题，在材料选择、器件结构及加工技术等方面来寻求突破。本报告主要介绍集成电路及高k栅介质的研究背景、高k栅材料选择及界面修饰、及高k栅异质集成的应用探索的相关科学问题。
